Розуміння гетерінгу у виробництві напівпровідників

Геттерування — це процес, який використовується у виробництві напівпровідників для формування та розділення окремих транзисторів або інших компонентів на кремнієвій пластині. Термін «гетерінг» походить від ідеї «позбавлення» від домішок, які можуть вплинути на роботу пристрою.

Під час виробничого процесу пластина піддається високотемпературному відпалу, щоб видалити будь-які домішки, які могли бути введені під час попередні кроки. Цей процес відпалу може спричинити руйнування шарів діоксиду кремнію на поверхні пластини та вивільнення будь-яких уловлених домішок, які потім можуть бути поглинені геттерним шаром із такого матеріалу, як кремній або титан.

Геттерний шар діє як поглинач. для цих домішок, що дозволяє видалити їх із пристрою та покращити його загальну чистоту та продуктивність. Процес геттерування зазвичай виконується після виготовлення транзисторів або інших компонентів, але до того, як вони будуть упаковані та відправлені для використання в електронних пристроях.